两人各执一词，争论的声音在车间里回荡，代表了“土法革新”与“依赖引进”两种思路的激烈碰撞。周围的年轻技术员们看着两位核心骨干争吵，脸上都写满了焦虑和迷茫。

光刻机，这座横亘在自主芯片量产之路上的最后，也是最坚固的堡垒，似乎真的成为了无法逾越的天堑。

就在这时，秦念放下了手中的电子显微镜目镜。她刚才一直在观察那片因为光刻错位而导致电路短路的失败样片，【微观结构洞察】的能力让她清晰地“看”到了线条边缘的模糊和重叠区域的惨不忍睹。

她抬起头，目光平静地扫过争执中的两人，声音不大，却瞬间让整个车间安静了下来。

“海洋师傅的志气，文军同志的客观，都没有错。”她先肯定了双方，“等待进口，不现实，也违背我们‘争气’的初衷。但纯粹依靠提升这台老旧设备的机械精度，确实已经触及物理极限。”

她走到那台光刻机前，冰冷的手指轻轻拂过那布满岁月痕迹的金属外壳，仿佛在感受它残存的脉搏。

“硬件不够，”秦念的眼中闪过一丝锐利如手术刀般的光芒，清晰地传入每个人耳中，“计算来补。”

“计算？”李文军和张海洋同时愣住，连争吵都忘了。周围的年轻技术员们也面面相觑，计算？那不就是打算盘、解方程吗？跟这铁疙瘩机器有什么关系？

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“没错，计算。”秦念转身，拿起一支笔，在旁边的白板上快速画了起来，“既然我们无法保证一次曝光就完美对准，为什么不能把一次复杂的图形曝光，分解成多次简单的、精度要求较低的曝光来完成呢？”

她画了一个简单的方块矩阵图案：“比如，这个复杂的互连线路，我们可以把它分解成横向线条和纵向线条两组相对简单的图形。先用掩模版A，只曝光所有横向的线条。然后，移动硅片，更换掩模版B，再曝光所有纵向的线条。”

“可是……这样两次曝光之间的对准误差怎么办？”李文军立刻抓住了关键问题，眉头紧锁，“误差累积起来，可能比一次曝光还要糟糕！”

“这就是计算的用武之地。”秦念在白板上写下几个公式，“我们可以在设计掩模版的时候，就预先考虑到可能存在的、在一定范围内的对准误差。通过数学模型，对第二次需要曝光的图形进行‘预畸变’补偿。”